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  上海微高精密机械工程有限公司前身为中国电子科技集团第45研究所光刻机研究室，30多年来一直从事光刻设备的研究开发和应用。
主要业务：光刻机关键核心分系统研制开发，二手半导体设备翻新、再造、技术服务、备品备件销售。
企业文化 ：诚信、和谐、严谨、创新....
 
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 涂胶/显影设备 TEL ACT 8
CLEAN TRACK ACT8 -用于直径为150mm 到200mm 的晶片。 -层叠的涂胶、显影模块 ， -7层的热处理模块。 -友好的操作界面，高可靠性，能适用...
 光刻机 NSR-2205i12D
适用于350nm工艺器件量产的i-线步进投影光刻机； 最大数值孔径0.63； 具有用于量产工艺的可变形的照明系统、匹配可变化的数值孔径，...
 光刻机 NSR-2005i10C
适用于450nm工艺器件量产的i-线步进投影光刻机； 可选择的对准系统，能满足不同工艺层的要求，包括标准配置LSA(Laser Step Alig...
 光刻机 NSR-1505i7A
适用于500nm/650nm工艺器件量产的i/g-线步进投影光刻机； 镜头倍率为5：1， 采用LSA对准方式，精度高，效率高。 设备性能稳定、可...
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